topmenu topmenu topmenu topmenu
 
Produkty
FAQ


 
Newsletter
DODAJ
 
 

 
Szybki kontakt
WYŚLIJ
 
NASZ ADRES:
ATON-HT S.A.
ul. Na Grobli 6
50-421 Wrocław
tel. + 48 71 70 711 82
 
 
ATON MOS-2/3/2
A. A. A.

ATON MOS

Zastosowanie: Zanieczyszczone gazy – lotne związki organiczne


Technologia:
ATON MOS  ma na celu utlenianie związków organicznych (węglowodorów) oraz innych lotnych substancji chemicznych, które są emitowane w trakcie typowych procesów spalania (np. w spalarniach odpadów).



Oczyszczane gazy są tłoczone przez komorę procesową, wypełnioną kształtkami z ceramiki, odpornymi na wysokie temperatury
i silnie pochłaniającymi mikrofale.
Kształtki ceramiczne, nagrzewane do wysokich temperatur (900°C –1400°C), powodują turbulentny przepływ oczyszczanych gazów. W tych kontrolowanych warunkach skutecznie usuwane są wszystkie zanieczyszczenia organiczne i termicznie unieszkodliwiane  pyły, w tym pyły azbestowe. Opisany system pozwala również na bardzo skuteczne usuwanie odorów. 

 

Urządzenia do utylizacji gazów Urządzenie do oczyszczania gazów

                    
Rys.  Prototyp reaktora ATON 2 MOS.



Parametry techniczne





Urządzenie ATON MOS znajduje zastosowanie w obszarach takich, jak:

  • utlenianie zanieczyszczeń organicznych, powstałych w wyniku spalania paliw alternatywnych i konwencjonalnych;
  • usuwanie składników szkodliwych gazów odlotowych z procesów unieszkodliwiania odpadów;
  • termoreaktor dopalający zanieczyszczenia gazów podprocesowych w przemyśle;
  • selektywna oksydacja składników gazowych;
  • redukcja uciążliwych odorów.

 

WSTECZ DO GÓRY
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
Copyright © 2008 ATON-HT S.A. | Sitemap | TAGI: oczyszczanie gazów poprocesowych usuwanie odorów